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  208HRLo strumento di sputtering ionico ad alta risoluzione fornisce una vera soluzione ai vari problemi di sputtering del campione incontrati nelle applicazioni di microscopia elettronica di scansione delle emissioni di campo.

  Quando osservato dalla microscopia elettronica a scansione delle emissioni di campo, il campione deve essere rivestito con uno strato di film estremamente sottile, amorfo e uniforme per eliminare l'accumulo di carica e migliorare il contrasto dei materiali a bassa densità. Al fine di ridurre al minimo le dimensioni dei cristalli fini,208HRFornisce una gamma di materiali di rivestimento e controllo impareggiabile sullo spessore del film e sulle condizioni di sputtering.

  208HRIl sistema turbopompa molecolare ad alto vuoto fornisce un'ampia gamma di pressioni operative, consentendo un controllo preciso dell'uniformità e della consistenza della membrana, minimizzando al massimo gli effetti di carica. alto/La progettazione strutturale della camera bassa del campione rende estremamente conveniente regolare la distanza tra il materiale di destinazione e il campione.

  MTM-20La risoluzione del regolatore di spessore del film ad alta risoluzione è inferiore a0,1nmLa sua funzione è quella di controllare precisamente lo spessore del film placcato ed è particolarmente adatto per microscopia elettronica di emissione di campo per misurare lo spessore del film (0.5－3nm)I requisiti.

  I materiali target raccomandati per il rivestimento di microscopia elettronica a scansione delle emissioni di campo sono:

  • Pt/PdMateriali di rivestimento universali per il rivestimento del campione non conduttivo

  • CrMateriali di rivestimento eccellenti per campioni a semiconduttore

  • IrEccellente materiale di rivestimento veramente amorfo

  208HRIl sistema offre molteplici opzioni di configurazione per ottenere il miglior effetto di rivestimento ad alta risoluzione, che può essere equipaggiato con pompe rotative a palette standard o pompe per vuoto vortice oil-free che forniscono vuoto pulito208HRcontieneCrePt/PdObiettivo.

  1,Caratteristiche principali

  · I materiali di rivestimento multipli possono essere selezionati

  · Controllo accurato dello spessore della pellicola

  · Controllo flessibile della fase di campionamento:Può ruotare indipendentemente, ruotare planetario e inclinare controllare la fase del campione per garantire che i campioni con grandi differenze morfologiche possano anche raggiungere il miglior effetto di rivestimento.

  · Portacampioni multipli:fornire4Ogni porta campioni ha un diametro di32 mm, può caricare fino a6Un piccolo portacampioni.

  · Geometria variabile della camera di campionamento: La geometria della camera del campione è usata per regolare il tasso di rivestimento (1,0nm/s～0,002nm/s）

  · Ampia gamma di pressione di esercizioRegolazione indipendente della potenza e della pressione, la gamma di pressione del gas argon è0,2 - 0,005 mbar.

  · Design compatto e moderno del piano da tavolo

  · facile utilizzo

  2,Parametri tecnici

  Sistema di sputtering
  Testa di rivestimento	Magnetron planare a bassa tensione Sostituzione rapida del materiale bersaglio Scudo dell'area oscura circostante Regolazione e schermatura del materiale bersaglio
  Materiale bersaglio	Cr, Pt/Pd (configurazione standard) Ta, Au, Au/Pd, Pt, W, Ir , Ti(Facoltativo)
  Controllo del rivestimento	controllo a microprocessore INTERLOCCO DI SICUREZZA Il controllo corrente è indipendente dal grado di vuoto Corrente selezionabile digitale(20，40，60 e80mA）
  Dimensione della stanza del campione	diametro150mm Altezza165 - 250mm
  fase di campionamento	Rotazione non ripetitiva, rotazione planetaria e capacità di inclinazione manuale0-90° Velocità di rotazione regolabile Testa di cristallo 4Una tabella di campionamento
  Metrologia analogica	vuotoAtm - .001mb corrente elettrica0-100mA
  Metodo di controllo	Funzione automatica di depurazione e sfiato del gas Ordinazione automatica del processo Timer digitale con funzione "pausa" Sanguinamento automatico
  Controllo dello spessore della pellicola	MTM-20Regolatore di spessore della pellicola ad alta risoluzione
  sistema di vuoto
  struttura	Combinazione della pompa di trazione molecolare della turbina e della pompa a palette rotante, Pompa per vuoto a vortice oil free invece della pompa rotativa a palette (opzionale)
  Velocità di pompaggio sotto vuoto	0,1mbsotto300 l/min
  tempo per il vuoto	1 mbara1 x 10-3mbar
  mbar	1 x 10-5mbar
  Sistema desktop	La pompa rotativa a palette è posizionata su una piattaforma antisismica ed è dotata di un sistema di accoppiamento vuoto completamente metallico
  Strumento di misura e controllo dello spessore della pellicola
  MTM-20	Basato su microprocessori,4Display digitale, pulsante di reset,6MHzCristallo (con funzione di controllo della durata della vita),5ordine/sTasso di aggiornamento
  Gamma di spessore del film	0,0 - 999,9 nm
  risoluzione	essere migliore di0,1nm
  Intervallo di densità	0,50 - 30,00gm/cm3
  Intervallo del coefficiente di correzione	0.25 - 8.00
  Gamma di terminazione del rivestimento	Spessore del film0 - 999,9 nm
  requisiti di sistema
  elettrico	100-120forse200-240VAC, 50/60Hz
  potenza	550VA(Massimo)
  argon	purezza minima99.995% Regolare la pressione5 - 6 psi (0,4 bar) ID 6,0mmTubo flessibile